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碲化铋晶粒清洗机

FJD-5810LXG碲化铋晶粒清洗机设备半导体晶粒清洗机:二流体离心晶粒清洗机电 源:AC380V/50Hz,三相五线制;半导体晶粒清洗机装机功率:约8KW(最大);给排水:总排水1",总进水3/4";用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;碲化铋晶粒清洗机、晶粒清洗机压缩空气用量:5~20M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;碲化铋清洗机 碲化铋晶粒二流体清洗机:废气总排放量:约900M3/H(风机用户自配);

FJD-5810LXG碲化铋晶粒清洗机设备-WAFER深圳富嘉达半导体晶粒清洗机参数:

该全自动封闭式半导体晶粒清洗机-半导体清洗设备主要由:清洗工作圆盘1套、喷淋清洗腔、减振装置、管路、二流体喷淋系统1套、离心甩干机构1套、控制系统1套、工装治具5套、FFU过滤系统1套、水压气压监测、机架等组成。整机为了便于运输,机体底部装有万向活动脚轮及支撑脚杯。

该全自动封闭式半导体晶粒清洗机-半导体清洗设备是一套全自动的清洗机,清洗介质为二流体(高纯水与压缩空气),清洗机工作时操作者将要清洗的工件放到工作台上,固定好后,人工按下清洗按钮,可视气缸门将自动关闭,对工件进行清洗、漂洗及甩干,当时间到后,可视气门自动开启,就完成了整个清洗过程,除上下料外,整个清洗、甩干过程为全自动运行,无人工干预。清洗甩干后操作员取料,完成整个清洗工序作业;碲化铋清洗机  碲化铋晶粒二流体清洗机、碲化铋晶粒清洗机、晶粒清洗机、二流体离心晶粒清洗机、半导体晶粒清洗机。

FJD-5810LXG碲化铋晶粒清洗机设备-深圳富嘉达半导体晶粒清洗机清洗区域为全封闭、全不锈钢结构; 清洗腔体内壁用SUS316镜面板喷铁氟龙处理工艺制作,外壳用SUS304镜面板制作; 清洗腔体操作面设有透明的气缸门; 清洗后的清洗液将直接排掉;

设备安装1个急停开关,以便紧急情况时,可快速的停止设备的运行,安装位置安全合理,便于操作。设备均有可靠的接地,以保障人员及设备电路的安全。

深圳富嘉达全国服务热线:0755-2799-3344  134-8068-0074


FJD-5810LXG碲化铋晶粒清洗机设备半导体晶粒清洗机:

二流体离心晶粒清洗机电  源:AC380V/50Hz,三相五线制;

半导体晶粒清洗机装机功率:约8KW(最大);

给排水:总排水1",总进水3/4";

用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;

碲化铋晶粒清洗机、晶粒清洗机压缩空气用量:5~20M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;

碲化铋清洗机  碲化铋晶粒二流体清洗机:

废气总排放量:约900M3/H(风机用户自配);


FJD-5810LXG碲化铋晶粒清洗机设备半导体晶粒清洗机:

二流体离心晶粒清洗机电  源:AC380V/50Hz,三相五线制;

半导体晶粒清洗机装机功率:约8KW(最大);

给排水:总排水1",总进水3/4";

用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;

碲化铋晶粒清洗机、晶粒清洗机压缩空气用量:5~20M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;

碲化铋清洗机  碲化铋晶粒二流体清洗机:

废气总排放量:约900M3/H(风机用户自配);


FJD-5810LXGWAFER碲化铋晶粒清洗机设备-WAFER碲化铋深圳富嘉达半导体晶粒清洗机。

WAFER碲化铋晶圆晶粒半导体行业专用清洗机清洗设备。

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WAFER碲化铋晶圆晶粒半导体行业专用清洗机清洗设备。


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