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晶粒离心二流体清洗机

晶粒二流体清洗机电 源:AC380V/50Hz,三相五线制;晶粒二流体清洗机装机功率:约9KW(最大);晶粒二流体清洗机给排水:总排水1",总进水3/4";用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;压缩空气用量:10~30M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;晶粒二流体清洗机废气总排放量:900M3/H(风机用户自配);深圳富嘉达超声波设备公司专业生产:晶粒二流体清洗机、晶粒清洗机设备、晶粒二流体离心清洗机、晶粒清洗机、晶粒离心二流体清洗机制造商

FJD-1000LXG晶粒二流体清洗机-深圳富嘉达晶粒清洗机设备:

该全自动封闭式晶粒二流体清洗机二流体离心清洗设备主要由:清洗工作台、喷淋清洗腔、减振装置、储液槽、二流体喷淋系统、二流体喷嘴、离心甩干机构、控制系统、机架等组成。整机为了便于运输,机体底部装有万向活动脚轮及支撑脚杯。

晶粒二流体清洗机该清洗机是一个全自动的清洗机,清洗介质为二流体(高纯水与压缩空气),另增加氮气流量控制;清洗机工作时操作者将要清洗的工件放到工作台上,固定好后,人工按下清洗按钮,可视气缸门将自动关闭,对工件进行清洗及甩干,当时间到后,可视气门自动开启,就完成了整个清洗过程,除上下料外,整个清洗、甩干过程为全自动运行,无人工干预。清洗甩干后操作员取料,完成整个清洗工序作业;

晶粒二流体清洗机电  源:AC380V/50Hz,三相五线制;

晶粒二流体清洗机装机功率:约9KW(最大);

晶粒二流体清洗机给排水:总排水1",总进水3/4";

用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;

压缩空气用量:10~30M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;

晶粒二流体清洗机废气总排放量:900M3/H(风机用户自配);

半导体晶粒二流体清洗机清洗区域为全封闭、全不锈钢结构; 清洗腔体内壁用SUS316镜面板制作,外壳用SUS304镜面板制作; 清洗腔体操作面设有透明的气缸门; 清洗后的清洗液将直接排掉;

晶粒二流体清洗机半导体行业本设备具备处理效果好、使用方便等特点,外形美观、结构合理、使用寿命长、经济环保。

全国服务热线:0755-2799-3344/134-8068-0074

晶粒二流体清洗机电  源:AC380V/50Hz,三相五线制;

晶粒清洗机设备、半导体晶粒二流体离心清洗机晶粒二流体清洗机装机功率:约9KW(最大);

晶粒清洗机、半导体晶粒离心二流体清洗机给排水:总排水1",总进水3/4";

晶粒二流体清洗机用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;

二流体清洗机压缩空气用量:10~30M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;


半导体晶粒二流体清洗机电  源:AC380V/50Hz,三相五线制;

半导体晶粒清洗机设备、晶粒二流体离心清洗机晶粒二流体清洗机装机功率:约9KW(最大);

半导体晶粒清洗机、晶粒离心二流体清洗机给排水:总排水1",总进水3/4";

半导体晶粒二流体清洗机用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;

半导体二流体清洗机压缩空气用量:10~30M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;


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晶粒二流体清洗机用水量:600~800L/H,压力:0.3~0.5MPa;电阻率:≥17MΩ;

二流体清洗机压缩空气用量:10~30M3/H;压力:0.45~0.7MPa;过滤方式:1μm*1,0.01μm*1;


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